XAVU抽真空儀器

儀器簡(jiǎn)介：

XAVU抽真空儀器是一款一機(jī)多用型光譜儀，應(yīng)用了*EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的膜厚性能，又可滿足成分分析。被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

XAVU抽真空儀器產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

1）搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和*光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，最小測(cè)量面積達(dá)0.03mm2

2）擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm

3）核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測(cè)第一層Ni和第三層Ni的厚度）

4）配置智能抽真空系統(tǒng)，屏蔽大氣對(duì)低能元素的影響，對(duì)Al,Si,P等輕元素涂鍍層厚度以及成分測(cè)試精度更高，數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確穩(wěn)定

5）裝配SDD硅漂移探測(cè)器，分辨率更高，能量線性好，較高的峰背比

6）配置更高效數(shù)字多道技術(shù)，測(cè)試速度更快，計(jì)數(shù)率達(dá)到100000CPS，精度更高

7）涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92）

8）成分分析范圍：鈉Na（11）- 鈾U（92）

9）RoHS、鹵素有害元素檢測(cè)

10）人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

11）標(biāo)配4準(zhǔn)直器自動(dòng)切換，最小測(cè)量面積可達(dá)0.03mm2

12）配有微光聚集技術(shù)，最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度小于10%