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          型號:

          鍍Ni標準片類型及參數

          描述:鍍Ni標準片類型及參數
          鍍Ni
          Ni1.89μm/Fe
          Ni3.64μm/Cu
          Ni4.24μm/Cu2.4μm/Fe
          Ni2.16μm/xx
          備注:其它單鍍層,多鍍層,合金層等規格標準片也可定制,歡迎來電!!!

          • 廠商性質

            經銷商
          • 更新時間

            2025-05-18
          • 訪問量

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          詳細介紹
          品牌其他品牌價格區間10萬-20萬
          產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池,包裝/造紙/印刷

          鍍Ni標準片類型及參數

          鍍Ni

          Ni1.89μm/Fe    

          Ni3.64μm/Cu    

          Ni4.24μm/Cu2.4μm/Fe    

          Ni2.16μm/xx    

          備注:其它單鍍層,多鍍層,合金層等規格標準片也可定制,歡迎來電!!!

          常用的鎳銀或鎳金層一般1~3微米。鎳層較厚, 要起阻擋層作用。
          另外鍍的方法上有電鍍和EN鍍,鍍層表面質量不一樣。
          分立半導體器件的電鍍一般采用純錫或錫基和金電鍍,這幾年由于歐洲RoHS指令生效,純錫電鍍較為流行。純錫電鍍有Wisker的問題,所以鍍層厚度的最小值一般要求超過8微米,并配合150C回火。
          不同的封裝工藝,對鍍層的要求不盡一樣,業界沒有固定的標準。只要能做到滿足可靠性就可以了,200-600微英寸。



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