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          型號:

          X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000

          描述:覆層的厚度測量已成為金屬加工工業(yè)進行成品質(zhì)量檢測*的重要的工序,目前國內(nèi)外已普遍按統(tǒng)一的標準測定涂鍍層厚度,《中華人民共和國計量法》對X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000也提出了技術(shù)要求。膜厚儀的選擇隨著材料物理性質(zhì)研究方面的逐漸進步而更加至關(guān)重要。

          • 廠商性質(zhì)

            經(jīng)銷商
          • 更新時間

            2025-05-19
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          詳細介紹
          品牌其他品牌價格區(qū)間面議
          產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷

          儀器簡介:

          XD鍍層測厚儀是一款專用于檢測各種異形件,特別適用于五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

          該系列儀器不但可以應對平面、微小樣品的檢測,在面對凹槽曲面深度0-90mm以內(nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢。

          被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

          產(chǎn)品優(yōu)勢:

          • *EFP算法:多層多元素、各種元素及有機物,甚至有同種元素在不同層也可精準測量

          • 上照式設計:實現(xiàn)可對超大工件進行快、準、穩(wěn)高效率測量

          • 自動對焦:高低大小樣品可快速清晰對焦

          • 變焦裝置算法:可對0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測

          • 小面積測量:最小測量面積0.002mm2

          • 可編程自動位移:選配自動平臺,X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動測量


          喬邦XRF電鍍層測厚儀價格性能特點


          專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

          單涂鍍層應用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

          多涂鍍層應用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

          合金鍍層應用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

          合金成分應用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。

          重復鍍層應用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。

          如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。



          喬邦XRF電鍍層測厚儀價格技術(shù)指標


          型號:XD-1000 XRF鍍層膜厚測試儀

          1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

          2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)

          3. 厚度檢出限:0.005μm

          4. 成分檢出限:1ppm

          5. 最小測量直徑0.05mm(最小測量面積0.002mm2)

          6. 對焦距離:0-90mm

          7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*150mm

          8. 儀器尺寸:760mm*550mm*635mm

          9. 儀器重量:100KG

          選擇一六儀器的四大理由:

          1.一機多用,無損檢測

          2.最小測量面積0.002mm2

          3.可檢測凹槽0-90mm的異形件

          4.輕元素,重復鍍層,同種元素不同層亦可檢測

          影響膜厚儀準確度的因素有以下幾種:

          1.曲率:不應在試件的彎曲表面上測量。

          2.讀數(shù)次數(shù):通常由于x熒光鍍層膜厚測厚儀的每次讀數(shù)并不*相同,因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內(nèi)進行多次測量,表面粗造時更應如此。

          3.基體金屬特性:對于磁性方法,標準片的基體金屬的磁性和表面粗糙度,應當與試件基體金屬的磁性和表面粗糙4.度相似;對于渦流方法,標準片基體金屬的電性質(zhì),應當與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

          5.表面清潔度:測量前,應清除表面上的任何附著物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。

          6.基體金屬厚度:檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度,無損檢測資源網(wǎng)如果沒有,可采用其他方法進行校準。

          7.邊緣效應:不應在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進行測量。

           

          X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000性能特點

           

          滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求

          φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求

          高精度移動平臺可定位測試點,重復定位精度小于0.005mm

          采用高度定位激光,可自動定位測試高度

          定位激光確定定位光斑,確保測試點與光斑對齊

          鼠標可控制移動平臺,鼠標點擊的位置就是被測點

          高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準

          良好的射線屏蔽作用

          測試口高度敏感性傳感器保護

           

          X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000技術(shù)指標

           

          型號:XD-1000

          元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。

          同時可以分析30種以上元素,五層鍍層。

          分析含量一般為ppm到99.9% 。

          鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

          任意多個可選擇的分析和識別模型。

          相互獨立的基體效應校正模型。

          多變量非線性回收程序

          度適應范圍為15℃至30℃。

          電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

          外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm

          樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm

          重量:100kg

           







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