X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000

儀器簡介：

XD鍍層測厚儀是一款專用于檢測各種異形件，特別適用于五金類模具、衛浴產品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

該系列儀器不但可以應對平面、微小樣品的檢測，在面對凹槽曲面深度0-90mm以內的異形件具備巨大的優勢。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

產品優勢：

• *EFP算法：多層多元素、各種元素及有機物，甚至有同種元素在不同層也可精準測量

• 上照式設計：實現可對超大工件進行快、準、穩高效率測量

• 自動對焦：高低大小樣品可快速清晰對焦

• 變焦裝置算法：可對0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測

• 小面積測量：最小測量面積0.002mm2

• 可編程自動位移：選配自動平臺，X210*Y230*Z145mm行程內無人值守自動測量

喬邦XRF電鍍層測厚儀價格性能特點

專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法，結合*光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

喬邦XRF電鍍層測厚儀價格技術指標


型號：XD-1000 XRF鍍層膜厚測試儀

1. 元素分析范圍：氯（Cl）- 鈾（U）

2. 涂鍍層分析范圍：氯（Cl）/鋰（Li）- 鈾（U）

3. 厚度檢出限：0.005μm

4. 成分檢出限：1ppm

5. 最小測量直徑0.05mm（最小測量面積0.002mm2）

6. 對焦距離：0-90mm

7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm

8. 儀器尺寸：760mm*550mm*635mm

9. 儀器重量：100KG

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機多用，無損檢測

2.最小測量面積0.002mm2

3.可檢測凹槽0-90mm的異形件

4.輕元素，重復鍍層，同種元素不同層亦可檢測

影響膜厚儀準確度的因素有以下幾種：

1.曲率：不應在試件的彎曲表面上測量。

2.讀數次數：通常由于x熒光鍍層膜厚測厚儀的每次讀數并不*相同，因此必須在每一測量面積內取幾個讀數。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內進行多次測量，表面粗造時更應如此。

3.基體金屬特性：對于磁性方法，標準片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應當與試件基體金屬的磁性和表面粗糙4.度相似；對于渦流方法，標準片基體金屬的電性質，應當與試件基體金屬的電性質相似。

5.表面清潔度：測量前，應清除表面上的任何附著物質，如塵土、油脂及腐蝕產物等，但不要除去任何覆蓋層物質。

6.基體金屬厚度：檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，無損檢測資源網如果沒有，可采用其他方法進行校準。

7.邊緣效應：不應在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內轉角等處進行測量。

X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000性能特點

滿足各種不同厚度樣品以及不規則表面樣品的測試需求

φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求

高精度移動平臺可定位測試點，重復定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光，可自動定位測試高度

定位激光確定定位光斑，確保測試點與光斑對齊

鼠標可控制移動平臺，鼠標點擊的位置就是被測點

高分辨率探頭使分析結果更加精準

良好的射線屏蔽作用

測試口高度敏感性傳感器保護

X熒光鍍層膜厚測厚儀XD-1000技術指標

型號：XD-1000

元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。

同時可以分析30種以上元素，五層鍍層。

分析含量一般為ppm到99.9% 。

鍍層厚度一般在50μm以內（每種材料有所不同）

任意多個可選擇的分析和識別模型。

相互獨立的基體效應校正模型。

多變量非線性回收程序

度適應范圍為15℃至30℃。

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩壓電源。

外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm

樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm

重量：100kg