XD-1000膜厚測(cè)試儀器

XD-1000膜厚測(cè)試儀器性能特點(diǎn)

膜厚測(cè)試儀器專(zhuān)業(yè)的X射線(xiàn)熒光光譜分析儀器，X射線(xiàn)測(cè)厚儀，電鍍鍍層厚度檢測(cè)儀器，

滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線(xiàn)屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

XD-1000膜厚測(cè)試儀器技術(shù)指標(biāo)

型號(hào)：X-Ray膜厚測(cè)試儀器XD-1000
元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。
一次可同時(shí)分析*多24個(gè)元素，五層鍍層。
分析檢出限可達(dá)2ppm，*薄可測(cè)試0.005μm。
分析含量一般為2ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以?xún)?nèi)（每種材料有所不同）
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線(xiàn)性回收程序
多次測(cè)量重復(fù)性可達(dá)0.1%
長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性可達(dá)0.1%
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：100kg

標(biāo)準(zhǔn)配置

開(kāi)放式樣品腔。
精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。
雙激光定位裝置。
鉛玻璃屏蔽罩。
Si-Pin探測(cè)器。
信號(hào)檢測(cè)電子電路。
高低壓電源
高度傳感器
保護(hù)傳感器
計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)